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主要用于掃描電子顯微鏡鍍覆導電膜制備或電極制備等，通常是中小型掃描電子顯微鏡制樣的儀器。 主要用途：金、鉑、鈀、金鈀合金、鉑靶合金、銀、銅、銻、錫、鋅、銦、鎂等離子濺射
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