小型離子濺射儀(IonSputteringSystem)是一種常用于材料表面處理的設備,廣泛應用于薄膜沉積、表面分析、鍍膜等領域。離子濺射儀的工作原理是利用高能離子轟擊靶材,使靶材原子脫離并沉積到其他物體表面。隨著使用時間的增加,設備可能會出現故障,導致其性能下降。以下是一些常見的維修方法和處理步驟:1.常見故障及原因分析電源問題現象:離子源或濺射靶不工作,設備無反應。可能原因:電源電壓不穩定、電源損壞、內部電路連接松動。濺射靶材表面損壞或不均勻現象:濺射膜層厚度不均、膜層質...
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小型離子濺射儀(IonSputteringSystem)是一種常用于材料表面處理的設備,廣泛應用于薄膜沉積、表面分析、鍍膜等領域。離子濺射儀的工作原理是利用高能離子轟擊靶材,使靶材原子脫離并沉積到其他物體表面。隨著使用時間的增加,設備可能會出現故障,導致其性能下降。以下是一些常見的維修方法和處理步驟:1.常見故障及原因分析電源問題現象:離子源或濺射靶不工作,設備無反應。可能原因:電源電壓不穩定、電源損壞、內部電路連接松動。濺射靶材表面損壞或不均勻現象:濺射膜層厚度不均、膜層質...
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鎢燈絲掃描電子顯微鏡是一種利用電子束掃描樣品表面并通過探測二次電子、反射電子等信號來獲得樣品表面形貌、成分等信息的強大工具。鎢燈絲在該設備中通常作為電子源,起到發射電子的作用。鎢燈絲掃描電子顯微鏡的基本工作原理可以分為以下幾個步驟:1、電子源的產生:鎢燈絲通常作為電子槍的電子源。鎢具有較高的熔點和較低的工作溫度,因此常常被用作電子源材料。鎢燈絲加熱后,會因熱激發而釋放出電子,這些電子被加速到高能狀態,形成電子束。2、電子束加速:生成的電子在電場的作用下被加速,通常加速電壓為幾...
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?鎢燈絲掃描電鏡(SEM)是一種用于微觀形貌分析和微區成分分析的電子顯微鏡設備?。它通過向電子槍中的鎢燈絲施加高電壓,使其處于熱激發狀態,進而激發出電子束。這個電子束在掃描線圈的磁場控制下,在樣品表面逐點掃描,激發出二次電子和背散射電子等物理信號,這些信號被探測器收集并放大后,調制成圖像?。鎢燈絲掃描電鏡的工作原理如下:電子發射:電子槍內的鎢燈絲在高電壓作用下被加熱至熱激發狀態,發射出電子。電子束形成:發射出的電子經過電磁透鏡系統的加速和聚焦,形成細小的電子束。電子束掃描:電...
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國產場發射掃描電子顯微鏡是一種高分辨率的顯微鏡,廣泛應用于材料科學、生命科學、電子學等多個領域。其工作原理和應用不僅體現了電子顯微技術的前沿水平,還推動了國內相關研究領域的進步。國產場發射掃描電子顯微鏡的核心原理是利用場發射電子槍發射電子束,通過電子束與樣品表面相互作用來形成圖像。其工作過程可以分為幾個主要階段:1、電子束的產生與加速:電子束通過場發射電子槍產生。該電子槍利用電場效應將電子從尖銳的金屬針尖處發射出來。相比傳統的熱電子槍,場發射電子槍有更高的亮度和更小的發射源,...
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磁控離子濺射儀廣泛應用于各種材料的表面鍍膜,包括金屬、半導體、絕緣體等。其優點包括設備簡單、易于控制、鍍膜面積大、附著力強等。此外,磁控離子濺射技術還具有沉積溫度低、沉積速度快、薄膜均勻性好等特點,適用于各種需要薄膜的工業和科研領域?。磁控離子濺射儀基于物理氣相沉積(PVD)技術,其工作原理是利用輝光放電產生等離子體,并通過磁場約束帶電粒子,提高濺射效率。在電場的作用下,電子加速飛向基片,與氬原子碰撞,使其電離產生氬離子和新的電子。氬離子在電場作用下加速轟擊靶材,使靶材表面的...
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鎢燈絲掃描電鏡是一種重要的顯微技術,其應用領域涉及多個科學和工業領域,特別是在材料科學、電子學、生命科學等領域。鎢燈絲是掃描電鏡中的一種常見的電子源,它能提供高亮度的電子束,使得它在成像和分析方面表現出較高的分辨率。以下是鎢燈絲掃描電鏡的主要應用領域:1、材料科學它在材料科學中的應用最為廣泛,尤其是在金屬、陶瓷、聚合物和復合材料的研究中。在材料科學領域,主要用于觀察材料的微觀結構和表面形態。鎢燈絲可以生成強大的電子束,掃描樣品表面并獲得高分辨率的圖像,從而揭示材料的微觀結構、...
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